在上述正置明場模式中，光通過半透半反透鏡匯聚到明暗物鏡的中心。而在正置暗場中，光闌和暗場環將照明光束引導到明暗場物鏡的邊緣。二者的不同在于照明光束入射的角度：

我們在寬視場正置明場顯微成像系統中，引入了暗場照明光路，明場和暗場共用一個明暗場物鏡及寬視場顯微鏡筒，實現了明/暗場雙模切換的顯微觀察：

無需改變光路和更換物鏡，用戶只需操作光源ON/OFF即可切換明視場/暗視場兩種觀察模式。

落射式明場顯微觀察，多種照明波段可選；光圈可調，可按需擴展為科勒照明，為寬視場顯微成像應用提供均勻照度。

落射式暗場顯微觀察，深色背景提供了高對比度，適合顯示輪廓、邊緣、邊界和折射率漸變的應用，比如檢測半導體晶圓上層結構中的典型缺陷包括顆粒、殘留物、刮傷、晶體原生凹坑、裂紋等。

我們在光學實驗室配備了各種規格的光源模塊和成像鏡頭，力求實現功能模塊的快速搭建和配置優化，協助用戶開展多種顯微成像配置的高效驗證測試。

歡迎各領域的用戶攜帶檢測樣品到實驗室進行成像驗證。